ФГУП "ГНЦ "НИОПИК" разработана серия негативных фоторезистов с химическим усилением ФН-16У-2, ФН-16У-4, ФН-16У-7 (ТУ 2378-086-05784466-2016) - аналогов AZ nLOF 2070 фирмы MicroChemicals, востребованных по программе импортозамещения. Эта серия фоторезистов пригодна для процессов физического напыления (PVD) и Lift-off процессов («взрывной» литографии). В настоящее время ФГУП «ГНЦ «НИОПИК» является единственным отечественным разработчиком и производителем фоторезистов для «взрывной» литографии.
Мы готовы предоставить образцы этих фоторезистов для проведения испытаний.
Оформите заявку на сайте, мы свяжемся с вами в ближайшее
время и ответим на все интересующие вопросы.
