Повышение требований, предъявляемых потребителями, к техническим характеристикам и качеству позитивного фоторезиста ФП-383 потребовало перехода на новые пленкообразующие компоненты, по строению и свойствам соответствующие смолам, используемым для производства фоторезистов в ведущих зарубежных фирмах. В свою очередь это привело к необходимости разработать новые технические условия на позитивный фоторезист ФП-383 взамен ТУ 6-14-632-86. Внесение существенных изменений в новые ТУ связано с использованием более современных методов контроля качества фоторезистов, применяемых на нашем предприятии в настоящее время в соответствии с новым ГОСТ Р 52250-2004.
Фоторезист ФП-383, выпускаемый в соответствии с новыми ТУ 2378-082-05784466-2015 по техническим характеристикам не уступает выпускаемому ранее фоторезисту ФП-383 по ТУ 6-14-632-86, а по некоторым позициям превосходит его. Фоторезист ФП-383 обеспечивается формирование маски с разрешением не хуже 1 мкм при толщине пленки 1,0-1,2 мкм, устойчивостью к проявителю более 30 мин, светочувствительностью не более 2,5-2,7 мДж/см2.
| Наименование показателя |
ФП-383 Норма по ТУ 6-14-632-86 |
ФП-383 Норма по ТУ 2378-082-05784466-2015 |
|
|---|---|---|---|
| 1 | Внешний вид фоторезиста | Прозрачная жидкость красно-коричневого цвета, без осадка | Вязкая прозрачная жидкость желто-коричневого цвета |
| 2 | Относительная скорость фильтрации фоторезиста, отн. ед., не более | 2 | Заменен на показатель «Фильтруемость» в соответствии с ГОСТ Р 52250-2004 |
| 3 | Массовая доля воды в фоторезисте, %, не более | 0,6 | 0,6 |
| 4 | Массовая доля сухого остатка, %, в пределах | 19,0-22,0 | Перенесен в раздел «Справочные данные» |
| 5 | Массовая доля нафтохинондиазидных групп в пересчете на сухой остаток, %, в пределах | 11,5-15,0 | Заменен на более информативные для потребителей показатели «Светочувствительность» и «Гамма-контраст» |
| 6 | Кинематическая вязкость фоторезиста (20,0±0,5)°С, мм2/с | 6,00-6,50 | 5,00-6,00 |
| 7 | Внешний вид пленки фоторезиста | Прозрачная блестящая без разрывов | В процессе растворения пленки не должно наблюдаться образования ряби и радиальных лучей |
| 8 | Разрешающая способность (минимальная ширина воспроизводимого элемента), мкм | 2,0±0,3 | 1,0 |
| 9 | Толщина пленки, мкм | 1,1±0,1 | 1,0-1,2 |
| 10 | Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, с, не менее |
180 Оценивается по появлению первых изменений |
1800 Оценивается по заметным изменениям |
| 11 | Маскирующие свойства пленки фоторезиста в буферном травителе, проколов/мм2, не более | 0,10 | Не определяется. Производитель гарантирует при соблюдении условий транспортировки и хранения ФП-383, а также рекомендаций по применению, описанных в ТУ количество проколов/мм2 менее 0,1 |
| 12 | Адгезия пленки фоторезиста к поверхности окисла кремния | Не определяется | Отсутствие отслаивания элементов шириной 2 мкм. Введен в соответствии с ГОСТ Р 52250-2004 |
| 13 | Теплостойкость проявленного рельефа при температуре (130±2)оС | Не определяется | Отсутствие полного затекания промежутков между элементами шириной 2 мкм. Введен в соответствии с ГОСТ Р 52250-2004 |
