Фоторезисты негативные с химическим усилением серии ФН-16У

Контактная информация по продукту

Заказать продукцию

Контактное лицо: Старший менеджер по сбыту Горбунова Наталья Константиновна
Телефон +7 (999) 355-26-44
e-mail: n.gorbunova@niopik.ru

Зав. отделом: Макарова Елена Александровна
e-mail: lab32@niopik.ru

Версия станицы на английском языке En

Фоторезисты негативные с химическим усилением серии ФН-16У: ФН-16У-2, ФН-16У-4, ФН-16У-7

ТУ 2378-086-05784466-2016

Эта серия фоторезистов является аналогом AZ nLOF 2020, AZ nLOF 2035 и AZ nLOF 2070 фирмы MicroChemicals. Фоторезисты серии ФН-16У предназначены для использования в качестве защитного светочувствительного материала в прецезионных фотолитографических процессах при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных схем, а также для процессов физического напыления (PVD) и Lift-off процессов («взрывной» литографии). Экологически безопасны. Возможен выпуск любой модификации, обеспечивающей толщину пленок от 0,5 до 7,5 мкм. Фоторезисты серии ФН-16У чувствительны к i-лини (365 нм). Для проявления рекомендуется использовать безметальный проявитель ПП-051МС на основе 2,38%-ного водного раствора тетраметиламмония гидроксида.