Позитивный фоторезист ФП-383

Контактная информация по продукту

Заказать продукцию

Контактное лицо: Старший менеджер по сбыту Горбунова Наталья Константиновна
Телефон +7 (999) 355-26-44
e-mail: n.gorbunova@niopik.ru

Отдел материалов для электроники и спецтехники

Зав. отделом: Макарова Елена Александровна
(495) 408-72-63, e-mail: lab32@niopik.ru


Версия станицы на английском языке En

ТУ 2378-082-05784466-2015 (взамен ТУ 6-14-632-86)

Универсальный позитивный фоторезист ФП-383 предназначен для использования в фотолитографических процессах контактного и проекционного экспонирования спектром ртутной лампы (h- и g-линия) в производстве интегральных схем, полупроводниковых приборов, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат.

Наименование показателя Норма показателя
1 Внешний вид фоторезиста Вязкая прозрачная жидкость желто-коричневого цвета
2 Кинематическая вязкость фоторезиста, мм2/с 5,0-6,0
3 Массовая доля воды в фоторезисте, %, не более 0,6
4 Фильтруемость, г-1, не более 0,010
5 Разрешающая способность пленки фоторезиста, мкм 1
6 Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,0-1,2
7 Адгезия пленки фоторезиста к поверхности окисла кремния Отсутствие отслаивания элементов шириной 2 мкм
8 Устойчивость пленки фоторезиста в проявителе, мин, не менее 30. В процессе растворения пленки не должно наблюдаться образования ряби и радиальных лучей
9 Теплостойкость проявленного рельефа при температуре (130±2)оС Отсутствие полного затекания промежутков между элементами шириной 2 мкм
10 *Светочувствительность пленки, мДж/см2, не более 40
11 *Гамма-контраст, не менее 2,7

Срок гарантийного хранения фоторезиста ФП-383 - 12 месяцев.


Рекомендации по применению ФП-383

Наименование операции Режимы проведения операции
Нанесение Центрифугирование при скорости вращения 3000 об/мин: время вращения центрифуги 60 с..
Сушка Пластины с пленкой фоторезиста выдерживают:
- в скафандре при температуре (18-25) °С в течение 20 мин;
- в термошкафу при температуре (97±3) °С в течение 30 мин;
- в скафандре при температуре (18-25) °С в течение 30 мин.
Экспонирование Светочувствительность пленки фоторезиста толщиной (1,0-1,2) мкм не более 40 мДж/см2.
Проявление Проявитель 0,7%-ный (0,125 н) водный раствор КОН; время проявления 30-60 с.
Термообработка В термошкафу при температуре 120 °С в течение 20 мин.
Удаление Пленка удаляется обработкой в нагретом до (60-80) °С N, N-диметилформамиде или в смеси его с 5% триэтиламина.
Производство
Дезинфицирующие средства
Фото и видеоматериалы