Фоторезисты позитивные
Позитивные фоторезисты серии ФП-9120
Позитивные фоторезисты серии ФП-9120 (ФП-9120-1,0; ФП-9120-1,8; ФП-9120-2,0)
Универсальный тонкопленочный позитивный фоторезист (g- и h- линия) для контактного и проекционного экспонирования с водно-щелочным проявлением пленки раствором едкого калия. В зависимости от марки пленка фоторезиста обеспечивает разрешающую способность от 1 до 2 мкм, устойчивость к проявителю от 30 до 50 мин, светочувствительность не более 2,5-2,7 мДж/см2.
Читать полностью...Позитивный фоторезист ФП-2550
Позитивный фоторезист ФП-2550
Универсальный толстопленочный позитивный фоторезист (g- и h- линия) для контактного и проекционного экспонирования, чувствительный к спектральному диапазону ртутной лампы (g-линия), с водно-щелочным проявлением пленки раствором едкого калия. Обеспечивает разрешающую способность от 20 мкм при толщине пленки 6-7 мкм.
Читать полностью...Позитивный фоторезист ФП-3515-27
Позитивный фоторезист ФП-3515-27
Прямой аналог фоторезиста серии Microposit S1800 (Shipley). Пленка фоторезиста проявляется в водном растворе едкого натрия и тетраметиламмония гидроксида (TMAH). ФП-3515-27 обеспечивает формирование пленки с разрешением не хуже 0,8 мкм при экспонировании источником излучения с g- и h- линией в спектре, термопластичностью не менее 150°С при высокой светочувствительности (не более 2,7 мДж/см2).
Читать полностью...Позитивный фоторезист ФП-383
Позитивный фоторезист ФП-383
Широко известный универсальный тонкопленочный позитивный фоторезист (g- и h- линия), применяемый в фотолитографических процессах контактного и проекционного экспонирования в производстве интегральных схем, полупроводниковых приборов металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат. Фоторезист обеспечивается формирование маски с разрешением не хуже 1 мкм при толщине пленки 1,0-1,2 мкм, устойчивостью к проявителю (раствору едкого калия) не менее 30 мин, светочувствительностью не более 2,5-2,7 мДж/см2.
Читать полностью...|
Производство
|
Дезинфицирующие средства
|
Фото и видеоматериалы
|