ФП 2550
Универсальный толстопленочный позитивный фоторезист (g- и h- линия) для контактного и проекционного экспонирования, чувствительный к спектральному диапазону ртутной лампы (g-линия), с водно-щелочным проявлением пленки раствором едкого калия.
Характеристики
Разрешающая способность пленки фоторезиста: мкм
—
20
Область применения
—
для применения в фотолитографических процессах контактного экспонирования для производства полупроводниковых приборов и интегральных схем с глубинным травлением, а также с гальваническим осаждением металлов, с применением водно-щелочного проявления раствором едкого калия
Цена действительна только для интернет-магазина и может отличаться от цен в розничных магазинах
ФП 2550
Цены
ФП 2550 1 кг
Обеспечивает разрешающую способность от 20 мкм при толщине пленки 6-7 мкм.
Фоторезисты серии ФП-2550 являются аналогами по применению фоторезистов ФП-25, ФП-25МТ, SPR 220, AZ 4533. Возможен выпуск любой модификации, обеспечивающей толщину пленок от 3,5 до 10 мкм.
Фоторезисты серии ФП-2550 являются аналогами по применению фоторезистов ФП-25, ФП-25МТ, SPR 220, AZ 4533. Возможен выпуск любой модификации, обеспечивающей толщину пленок от 3,5 до 10 мкм.
| Наименование показателя | Норма показателя |
|---|---|
| Внешний вид | Вязкая жидкость красно-коричневого цвета |
| Кинематическая вязкость, мм2/с | 50-80 |
| Разрешающая способность пленки фоторезиста, мкм | 20 |
| Толщина пленки фоторезиста, мкм | 5,0-7,0 |
| Устойчивость пленки фоторезиста в проявителе, мин, не менее | 20 |
Рекомендации по применению ФП 2550
| Наименование операции | Режимы проведения операции |
| Нанесение | Центрифугирование при скорости вращения 2500 об/мин: время вращения центрифуги 60 с. |
| Сушка |
Пластины с пленкой фоторезиста выдерживают:
|
| Экспонирование | Светочувствительность пленки фоторезиста толщиной (5-7) мкм приблизительно 60 мДж/см2. |
| Проявление | Проявитель 0,7%-ный водный раствор КОН; время проявления 30-60 с. |
| Термообработка | В термошкафу при температуре 120 °С в течение 20 мин. |
| Удаление | Пленка удаляется обработкой в нагретом до (60-80) °С N, N-диметилформамиде или в смеси его с 5% триэтаноламином. |
Характеристики
|
Разрешающая способность пленки фоторезиста: мкм
|
20 |
|
Область применения
|
для применения в фотолитографических процессах контактного экспонирования для производства полупроводниковых приборов и интегральных схем с глубинным травлением, а также с гальваническим осаждением металлов, с применением водно-щелочного проявления раствором едкого калия |
|
Срок годности, лет
|
1 |
|
Консистенция
|
вязкая жидкость красно-коричневого цвета |
|
ТУ
|
20.59.12-029-58538514-2022 |
|
Кинематическая вязкость, мм2/с
|
50-80 |
|
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
5,0-7,0 |
Отгрузка со склада НИОПИК производится кратно транспортной упаковке.
Возможен самовывоз со склада по адресу: г. Долгопрудный,
Лихачевский проезд, д. 7.
Доставка:
- Стоимость доставки по Москве - 1500 руб. (в пределах МКАД);
- Обеспечиваем бесплатную доставку до московского терминала транспортных компаний (ПЭК, Деловые Линии, Грузлайн, Карго, Байкал-Сервис, ЖелДорЭкспедиция, ГлавДоставка).
